Filtry do masek i półmasek serii 6000 i 7000

Drukuj Email

www2125.png Filtry 3M chroniące przed cząstkami stałymi 

 

Filtry serii 2000

FILTR KLASA OCHRONY
ZAGROŻENIA
2125
 P2  Cząstki o koncentracji do 12xNDS
2135
P3 Cząstki o koncentracji do 50xNDS przy użyciu z półmaską i do 200xNDS przy użyciu z maską
2128
P2
Cząstki o koncentracji do 12xNDS oraz dokuczliwe zapachy par organicznych i gazów kwaśnych poniżej NDS, ochrona przed ozonem do 10xNDS
2138
P3 Cząstki o koncentracji do 50xNDS przy użyciu z półmaską i do 200xNDS przy użyciu z maską oraz dokuczliwe zapachy par organicznych i gazów kwaśnych poniżej NDS, ochrona przed ozonem do 10xNDS

www59xx.pngFiltry serii 5000
Stosowanie w połączeniu z pochłaniaczami serii 3M 6000 możliwe po użyciu pokrywki 3M 501
- łączenie za pomocą pokrywki 3M 501
- wyjątkowo lekki
- doskonałe pole widzenia

FILTR KLASA OCHRONY ZAGROŻENIA
5911 P1 Cząstki o koncentracji do 4xNDS 
5925
P2
Cząstki o koncentracji do 12xNDS
5935
P3
Cząstki o koncentracji do 50xNDS przy użyciu z półmaską i do 200xNDS przy użyciu z maską

www6035.png Filtr 6035

FILTR KLASA OCHRONY ZAGROŻENIA 
6035
P3
Cząstki o koncentracji do 50xNDS przy użyciu z półmaską i do 200xNDS przy użyciu z maską

MODEL ZAGROŻENIE PRZEMYSŁ
5911 P1
5925 P2
5935 P3
2125 P2
2135 P3
6035 P3
Cząstki (drobne pyły i mgły)
•farmaceutyka/sproszkowane chemikalia
•budownictwo/kamieniołomy
•materiały ceramiczne/ogniotrwałe
•odlewnie
•rolnictwo
•przemysł drzewny
•przemysł spożywczy
2128 P2 Cząstki, dokuczliwe odory par organicznych i gazów kwaśnych poniżej NDS •spawanie
•przemysł papierniczy
•browarnictwo
•procesy chemiczne
•smog
•tusze i barwniki
2138 P3 Cząstki, dokuczliwe odory par organicznych i gazów kwaśnych poniżej NDS •przemysł papierniczy
•procesy chemiczne
•spawanie
•browarnictwo